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FHD沉積設備
FHD沉積係統設計為在最短的時間內在基底上沉積矽（guī）和在基底上沉積矽酸（suān）鹽（二氧化（huà）矽），特別適用於光波導工藝的二（èr）氧化矽沉積，薄膜厚度達到25微米以上。
-技術優勢
1.首款自主研發的FHD鍍膜設備 ，TGV鍍銅設備（bèi）實現國外競品完全對標 ，產品已進客戶端量（liàng）產。
2.FHD鍍膜設備 ，TGV鍍銅設備為切入口 ，布局半導體（tǐ）光量子集（jí）成芯片... MORE +
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一代FHD沉積設備
FHD鍍膜設備 ，TGV鍍銅設備為切入口 ，布局半導體光量子（zǐ）集成芯片和先進封裝製程中合成石英和光纖設備及產品線，可替代進口設備 MORE +
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