晶圓水平(píng)電(diàn)鍍實驗機
水平電鍍技術,它是垂直電鍍法技術發展的繼續,技術的關鍵就是製造出相適應的、相互(hù)配套(tào)的水平電鍍係(xì)統,能使(shǐ)高分散能力的鍍液,在改進供電方(fāng)式(shì)和其它輔(fǔ)助裝置的配合下,顯示出比垂直電鍍法更為優異的功能作用。
(1)適應尺寸範圍較寬,無需進行手工裝掛,實現全部自動化(huà)作業
(2)在工藝審查中,無需留有裝夾位置,增加實用麵積,大大節約原材(cái)料的損耗。
(3)水平電鍍采用全程計算機控製,使基板在相同的條件下,確保每塊印(yìn)製電路板的表麵與(yǔ)孔的鍍層的均一性。
(4)電鍍槽從清理、電鍍液(yè)的添加和更(gèng)換,可完全實現自動化作(zuò)業,不會因為人為的錯誤(wù)造成管理上的失控問題。
(1)適應尺寸範圍較寬,無需進行手工裝掛,實現全部自動化(huà)作業
(2)在工藝審查中,無需留有裝夾位置,增加實用麵積,大大節約原材(cái)料的損耗。
(3)水平電鍍采用全程計算機控製,使基板在相同的條件下,確保每塊印(yìn)製電路板的表麵與(yǔ)孔的鍍層的均一性。
(4)電鍍槽從清理、電鍍液(yè)的添加和更(gèng)換,可完全實現自動化作(zuò)業,不會因為人為的錯誤(wù)造成管理上的失控問題。
產品特(tè)點
-機型(xíng)體積小,靈活度高
-水平式電鍍(dù)腔體,無交叉感染
-支持單腔體維護,提高設備正常運作時間
- 橡膠密封技術,更佳密封性能
- 陰陽級分離技術,更(gèng)佳(jiā)鍍液穩定性
- 電鍍(dù)液種類(lèi):Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 最多8個電鍍(dù)腔體:Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 具備預濕腔體和清洗功能
高度均勻(yún)性:WiW≤5%,WtW≤5%,RtR≤5%
-水平式電鍍(dù)腔體,無交叉感染
-支持單腔體維護,提高設備正常運作時間
- 橡膠密封技術,更佳密封性能
- 陰陽級分離技術,更(gèng)佳(jiā)鍍液穩定性
- 電鍍(dù)液種類(lèi):Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 最多8個電鍍(dù)腔體:Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 具備預濕腔體和清洗功能
高度均勻(yún)性:WiW≤5%,WtW≤5%,RtR≤5%
應用領域(yù)
Pillar,Bump,RDL,TSV等工藝
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